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Seinan industries SE-HAEMD霍爾效應(yīng)測(cè)試儀是用于測(cè)量半導(dǎo)體材料的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)等重要參數(shù)，而這些參數(shù)是了解半導(dǎo)體材料電學(xué)特性必須預(yù)先掌控的，因此是理解和研究半導(dǎo)體器件和半導(dǎo)體材料電學(xué)特性*的工具。

脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱(chēng)為脈沖激光燒蝕（Pulsed laser ablation，PLA）指的是用激光使材料揮發(fā),從而將材料鍍?cè)谒蟮臉悠罚ㄒr底）上的薄膜沉積技術(shù)。PLD-301脈沖激光沉積系統(tǒng)是日本誠(chéng)南工業(yè)根據(jù)客戶(hù)的要求，在豐富經(jīng)驗(yàn)的基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)制造的，采用PBN加熱器，可將基板加熱到1000℃以上，并采用氧氣氣氛，從而生產(chǎn)出高質(zhì)量的薄膜。